妙德CV-真空发生器工作原理

浏览：2797 发布日期：2023.01.30 【大中小】

　　妙德真空发生器广泛运用于工业自动化中机械，电子，包装，印刷，塑料及机器人等领域。真空发生器的传统用途是吸盘配合，进行各种物料的吸附，搬运，尤其适合于吸附易碎，柔软，薄的非铁，非金属材料或球型物体。在这类应用中，一个共同特点是所需的抽气量小，真空度要求不高且为间歇工作。

　　真空发生器简介：

　　妙德CV-真空发生器是利用正压气源产生负压的一种新型，高效，清洁，经济，小型的真空元器件。

　　妙德CV-真空发生器原理

　　妙德CV-真空发生器多级真空发生器采用喷嘴结构设计，使得只利用较少的压缩空气就能够产生约3倍左右的真空抽气量，drm多级真空发生器的线l/min，线kpa,基本能够满足各种真空场合的需求，并且我们还不断的研究开发使其消耗的压缩空气更小，产生更多的真空抽量，和达到更高的真空度。

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　　妙德CV-真空发生器的结构：

　　它由喷嘴、接收室、混合室和扩散室组成。

　　影响真空发生器性能的主要因素

　　真空发生器的性能与喷管的最小直径，收缩和扩散管的形状，通径及其相应和气源压力大小等诸多因素有关。

　　①最大吸入流量特性分析

　　②吸入口处压力pv的特性分析

　　③在吸入口吵完全封闭的条件下，对特定条件下吸入口处压力pv与吸入流量之间的关系

　　④扩散管的长度应喷管出口的各种波系充分发展，使扩散管道出口截面上能获得近似的均匀流动。

　　⑤吸着响应时间与吸附腔的容积有关(包括扩散腔，吸附管道及吸盘或密闭舱容积等)，吸附表面的泄漏量与所需吸入口处压力的大小有关。